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ASCII-8BIT |
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项目类型: |
ZH |
成果名称: |
PCVD-300等离子体化学气相沉积设备 |
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成果单位: |
中国科学院大连化学物理研究所 |
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检索用关键词: |
PCVD-300 等离子体 化学气相沉积设备 |
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专利状况: |
3 |
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专利申请号: |
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应用行业: |
D, G |
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技术领域: |
9 |
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技术产品用途介绍: |
成果内容水平: 制备非晶硅太阳能电池,各种非晶硅膜、多晶态膜、钝化膜 、硬化膜 、金属膜及其它金属有机膜。处于国内领先水平。 主要技术指标: 真空度:掺杂室6×10-5 Pa 进片室2.6×10-4 Pa,工作真空可调。 样品尺寸:100×100 衬底温度:400℃,可调 RF电源:f=13.56MHZ 300W 结构:三个矩形真空室,420×300×250
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产品性能: |
0 |
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市场前景及经济效益分析: |
市场前景及经济效益: 价格约30万元人民币, 社会需求每年10台左右
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成果权属: |
1 |
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项目来源: |
1 |
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转化方式: |
7 |
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成果状态: |
9 |
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成果单位详细信息: |
查看成果单位详细信息 |
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