项目类型：

TG

成果名称：

Nd:KGW激光掩膜微加工设备

成果单位：

中国科学院光学精密机械与物理研究所

检索用关键词：

Nd:KGW激光掩膜微加工设备

专利状况：

3

专利申请号：

应用行业：

D,

技术领域：

技术产品用途介绍：

该设备是以Nd:KGW激光器为光源的掩膜微加工技术，为国际创新技术。可广泛用于微电子器件、介入医疗器械、微机械、微标识、特殊异型孔加工、金刚石等超硬材料加工等高新技术领域。

产品性能：

独创的快速掩膜制备技术，可在三分钟内完成掩膜制备。主要技术指标：1、波长：1064nm; 2、重复频率：≧100Hz; 3、脉宽：≦8ns; 4、模式：TEM00; 5、峰值功率：8000kW；6、稳定性：≦5%；7、最大加工区域：3mm×3mm; 8、最大刻线宽度：10微米；9、微加工精度：10微米

市场前景及经济效益分析：

成果权属：

项目来源：

9

转化方式：

8

成果状态：

9

成果单位详细信息：

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